金融界 2024 年 12 月 9 日消息，国家知识产权局信息显示，ASML 控股股份有限公司申请一项名为“光刻设备、衬底台和不均匀涂层方法”的专利，公开号 CN 119087748 A，申请日期为 2020 年 4 月。
专利摘要显示，一种光刻设备，包括：照射系统、支撑件、投影系统以及衬底台。衬底台包括：台座，包括表面；以及具有不均匀厚度的涂层，被设置在台座的表面上。台座相对于名义平坦度的偏转是由涂层引起的应力的函数，其中涂层的横截面轮廓至少基于应力和不均匀厚度，其中涂层的表面是实质上平坦的，并且其中涂层的表面被配置为在衬底台支撑衬底时接触衬底。
本文源自金融界
网友看法
1、网友率真香瓜diO：科技进步的体现呀
2、网友正义凛然小红花yF：没几年活头的公司了，中国必然干掉它
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